Sustav tankog filma potpomognutog ionskom{0}}evaporacijom (IAE) integrira fizičko taloženje parom (PVD) s bombardiranjem energetskim ionskim snopom. Tijekom toplinskog ili-isparavanja snopom elektrona, pomoćni Kaufmanov ili End-Hallov izvor iona usmjerava ione argona ili reaktivnog plina na supstrat koji raste. Ovaj prijenos zamaha povećava pokretljivost adatoma, eliminira šupljine u obliku stupaca i daje guste filmove-stabilne na vlagu s indeksom loma gotovo-indeksa loma i minimalnim toplinskim pomakom.
Projektiran za proizvodna i istraživačka okruženja koja zahtijevaju strogu kontrolu nad optičkim konstantama i zaostalim naprezanjem, ovaj sustav prilagođava više-džepne elektronske pištolje, otporne isparivače i prilagodljive učvršćivače supstrata.
Tehničke specifikacije
|
Parametar |
Specifikacija |
|
Krajnji osnovni tlak |
< 5.0 x 10^-6 Pa (achieved within 40 minutes via high-throughput cryo/turbomolecular pumping) |
|
Radni tlak |
1,0 x 10^-1 do 1,0 x 10^-2 Pa (tijekom ubrizgavanja reaktivnog plina) |
|
Rotacija podloge |
Promjenjiva brzina rotacije planetarne ili jedne-osi: 0–30 okretaja u minuti, opcije upravljanja-vodom/grijačem |
|
Izvori isparavanja |
1 do 4 džepna E-beam gun (6kW–15kW) i/ili više-kanalni izvori otpora |
|
Vrsta izvora iona |
Kraj-Hall ili Kaufmanov ionski izvor bez mreže (50–500 eV, 0–1000 mA) |
|
Ponovljivost procesa |
<= +/- 0.15% batch-to-batch optical thickness repeatability over a 500mm carrier area |
|
Materijal komore |
304L nehrđajući čelik, unutarnje stijenke elektro -polirane do Ra < 0,25 um |
Ključne značajke
Prijenos-ionskog momenta u stvarnom vremenu:Ionsko -bombardiranje zgušnjava mikrostrukture, potiskujući upijanje vlage iz okoliša i promjenu indeksa loma. -SEM analiza poprečnog presjeka potvrđuje nultu pojavu stupčastih šupljina u hrpama oksida.
Regulacija brzine zatvorene-petlje:PID{0}}kontrolirani izvori napajanja povezuju se izravno s više-kanalnim Quartz Crystal Microbalance (QCM) senzorima za održavanje stabilnosti brzine taloženja unutar +/- 0.1 Å/s.
Toplinsko upravljanje s malim nedostatkom:Sklopovi radijacijskih grijača omogućuju prethodno-čišćenje supstrata i-in situ žarenje do 400 stupnjeva s ujednačenošću +/- 2.5 stupnjeva.
Brzo-održavanje:Brzi{0}}prirubnice izvora i modularni sklopovi ionske-rešetke omogućuju potpuno interno održavanje i ciljano ponovno punjenje u manje od 2 sata, smanjujući neplanirane zastoje u čistim sobama.
Konfiguracija vakuumskog sustava
Pumping Stack:Pomoćna pumpa (Roots + rotirajuća lopatica) uparena s turbomolekularnim pumpama visokog-protoka (kapaciteta 1600 L/s) ili kriopumpama (1500 L/s) projektiranim za rukovanje opterećenjem reaktivnog plina tijekom-brzinskih IAE procesa.
Ventili i brtvljenje:Pneumatski zasuni i viton/metalne dvostruke -brtve izoliraju procesnu komoru od grubih vodova, sprječavajući povratni tok ugljikovodika.
Tlačne blokade:Automatizirano PLC sekvenciranje nadzire prednji tlak, protok vode za hlađenje i dovod komprimiranog zraka prije aktivacije visoko{0}}naponskog E-zračnog pištolja.
Materijali za isparavanje i kompatibilnost podloge
Materijali za isparavanje:Oksidi (TiO2, ZrO2, SiO2, Al2O3), fluoridi (MgF2) i metali visoke-čistoće (Au, Ag, Al, Ti).
Materijali supstrata:Optičko staklo (BK7, taljeni silicij), silikonske pločice (do 300 mm), složeni poluvodiči (GaAs, InP) i keramika/metali.
Učvršćivanje:Prilagođeno-strojno izrađeni držači podloga od aluminija ili nehrđajućeg čelika dizajnirani za toplinsku vodljivost i minimalno stvaranje čestica tijekom rotacije planeta.
Aplikacije i konfigurabilne serije
Serija-O (precizna optika):Optimizirano za više{0}}slojne filtre optičkih smetnji, laserska zrcala i AR premaze. Integriran sa širokopojasnim optičkim nadzorom (OMS) i planetarnom rotacijom velike-gustoće kako bi se osigurao spektralni pomak < 0,1% pod promjenama vlažnosti okoline.
Serija-S (pakiranje poluvodiča i senzori):Projektiran za niske{0}}metalne početne slojeve i dielektričnu pasivizaciju na silikonskim pločicama od 200 mm/300 mm s kompatibilnošću-opterećenja-zaključavanjem čestica.
Serija-R (Istraživanje i razvoj / Napredno istraživanje materijala):Vrlo fleksibilna arhitektura komore koja podržava dvostruke ionske izvore i brzu izmjenu -paluba izvora za sveučilišne laboratorije i korporativne centre za istraživanje i razvoj.
Prilagodba i inženjerska integracija
Dimenzije komore:Prilagođeni unutarnji volumeni u rasponu od 600 mm do 1200 mm promjera.
Razine automatizacije:Polu-automatski PLC recepti ili potpuno nenadzirani recepti kontrolirani putem industrijskog SCADA softvera-zaslona osjetljivog na dodir s Audit Trailom (opcije sukladne 21 CFR Part 11 dostupne za medicinsku/senzorsku proizvodnju).
Dijagnostički priključci:Dodatne NW/CF prirubnice dodijeljene za-in situ spektroskopsku elipsometriju ili analizatore zaostalog plina (RGA).
Kontrola kvalitete i tvornička provjera
Detekcija curenja:Svaka vakuumska komora podvrgava se ispitivanju curenja pomoću spektrometra mase helija do praga od < 1 x 10^-10 Pa*m^3/s prije puštanja u promet u tvornici.
Mikrostrukturna validacija:Standardna provjera kvalitete uključuje opcionalnu SEM inspekciju presjeka za provjeru gustoće filma i strukturne ujednačenosti.
Električna sigurnost:Visok{0}}otpor izolacije napona, kontinuitet uzemljenja i ispitivanje odziva blokade izvršeno prema standardima CE/SEMI S2.
Instalacija i tehnička podrška
Tvorničko prijemno ispitivanje (FAT):Dovršeno u našem proizvodnom pogonu; klijenti dobivaju osnovno izvješće o radu koje potvrđuje osnovni tlak, stabilnost stope taloženja i izlaz ionske struje.
Ispitivanje prihvatljivosti lokacije (SAT):In-inženjeri na licu mjesta nadziru opremu, priključke na struju (voda za hlađenje, struja, komprimirani zrak, procesni plinovi) i kalibraciju.
Dokumentacija:Opsežni servisni priručnici uključuju električne sheme, izvorne logičke oznake PLC-a, dijagrame vakuumskih cjevovoda i popise potrošnih dijelova.
FAQ
P: Kako pomoć iona utječe na naprezanje filma u dielektričnim hrpama?
O: Energično ionsko bombardiranje zbija granice zrna i neutralizira vlačno naprezanje koje se obično nalazi u isparenim filmovima, dopuštajući prilagodbu naprezanja od vlačnog do gotovo-nultog ili blagog tlačnog stanja podešavanjem energije ionske zrake i gustoće struje.
P: Koja je dokazana ponovljivost sustava-za-seriju?
O: Tijekom kontinuiranog testa životnog ciklusa od 300 ciklusa korištenjem standardnih oksidnih dielektrika (SiO2/Ta2O5), sustav održava ponovljivost optičke debljine od<= +/- 0.15% across a 500mm carrier area.
P: Koji su pomoćni programi potrebni na mjestu instalacije?
A: Standard requirements include 3-phase 380V/480V AC, chilled cooling water (18–22°C, >= 5 bar), komprimirani zrak (0,6 MPa) i ispušna ventilacija za mehaničke pumpe. Točno mapiranje komunalnih priključaka daje se tijekom planiranja objekta.
Popularni tagovi: ionski-sustav tankog filma potpomognutog isparavanja, Kina proizvođači, dobavljači, tvornica sustava tankog filma potpomognutog ionskog isparavanja, Fleksibilna tanko filmska oprema, industrijska oprema za tanke film, oprema tankog filma, Tanka filmska oprema za aplikacije za proizvodnju NEMS -a, Tanka filmska oprema za optičke primjene, oprema za ispitivanje tankih filmova

