Pregled proizvoda

 

Industrijska više{0}}lučna oprema za ionsko oplatu projektirana za nanošenje tvrdih premaza, funkcionalnih filmova i dekorativnih PVD završnih slojeva na precizne komponente. Koristeći visoko{2}}strujno, nisko{3}}naponsko pražnjenje vakuumskog luka, sustav izravno isparava čvrste ciljne materijale (Ti, Cr, Al, Zr). U kombinaciji s reaktivnim plinovima (N2, O2, C2H2), sintetizira guste nitride, karbide i okside prijelaznih metala izravno na metalne podloge.


Izgrađeno na modularnoj arhitekturi vakuumske komore, ovo PVD rješenje po principu "ključ u ruke" prilagođava se različitim proizvodnim razmjerima-od serijske obrade za istraživanje i razvoj do automatizirane,-inline proizvodnje visokog protoka. Sustav je optimiziran za visoko ciljano iskorištenje i niske ukupne troškove vlasništva (TCO) u kontinuiranim industrijskim okruženjima 24/7.

 
  • Multi{0}}Arc Ion Deposition System
    The Multi-Arc Ion Deposition System performs industrial-scale cathodic arc evaporation for hard, wear-resistant, and low-friction thin films. The process achieves >80% ionizacija čvrstog katodnog...
    vidi više
  • Multi{0}}Arc PVD oprema za tanki film
    Industrijski više{0}}lučni PVD sustav koristi katodni luk visoke{1}}ionizacije fizičkim taloženjem iz pare za nanošenje gustih, stehiometrijskih tvrdih premaza (kao što su TiN, TiAlN, CrN i DLC)...
    vidi više
  • Više{0}}oprema za ionsko taloženje luka
    Industrijski sustav više-lučnog ionskog taloženja stvara guste,-tanke filmove visoke-adhezije kroz visoko-strujno, nisko-naponsko isparavanje katodnog luka. Čvrsti ciljni materijali (katode)...
    vidi više
  • Multi{0}}Arc Ion Thin Film System
    Industrijski Multi{0}}Arc Ion Thin Film System koristi isparavanje katodnim lukom za nanošenje gustih keramičkih i metalnih premaza visoke -adhezije na podloge od metala i legura. Isparavanjem...
    vidi više
  • Multi{0}}Arc Ion Thin Film Oprema
    Ovaj više-lučni sustav ionske ploče koristi isparavanje katodnog luka za nanošenje gustih tvrdih premaza visoke-adhezije i funkcionalnih tankih filmova. Udaranjem luka visoke -struje i...
    vidi više
 
Tehničke specifikacije

 

Parametar

Raspon specifikacija

Jedinica / Napomena

Dimenzije komore

F600 x 600 do F1500 x 1800

mm (prilagođene okomite ili vodoravne konfiguracije)

Krajnji vakuumski tlak

<= 5.0 x 10^-4

Pa (suha pumpa + turbo-molekularni / set za difuziju ulja)

Izvori katodnog luka

4 do 16 jedinica

Elektromagnetski upravljani ili filtrirani izvori luka (FCA)

Snaga pristranosti supstrata

0 do -1000

V (napredne pulsne DC / MF mogućnosti prednaprezanja)

Temperatura grijanja

Sobna temperatura do 600

C (PID kontrolirani grijači zračenja)

Ujednačenost taloženja

<= +/- 5%

Mjereno XRF-om u efektivnoj radnoj zoni

Kontrolni sustav

PLC + industrijsko računalo

Automatizirano izvršenje recepata, SCADA zapis podataka

Sigurnost i sukladnost

CE, ISO 9001

UL-sukladna električna kućišta dostupna na zahtjev

 

 

Više{0}}proces ionskog taloženja luka

Slijed fizičkog taloženja parom radi na strogom, zatvorenom-automatiziranom tijeku rada kako bi se osigurala ponovljivost od-do-serije:


Evakuacija i ispuštanje plinova:

Vakuumska komora se pumpa do osnovnog tlaka od<= 5.0 x 10^-3 Pa, while substrate temperatures are ramped to eliminate surface volatiles.


Plazma jetkanje (bombardiranje):

Uvodi se plin argon. Visoka negativna pristranost primjenjuje se na držač supstrata, generirajući Ar ione koji bombardiraju površinu kako bi raspršili izvorne okside i mikro-kontaminante.

Isparavanje luka i ionizacija:

Istosmjerna struja luka udara u čvrstu metalnu katodu. Lokalna katodna točka doseže ekstremnu gustoću energije, trenutačno isparavajući ciljni materijal u struju plazme visoke-gustoće (stopa ionizacije > 80%).

Reaktivno taloženje:

Reaktivni plinovi se ubrizgavaju u tok plazme pri precizno kontroliranim parcijalnim tlakovima putem kontrolera protoka mase (MFC), tvoreći stehiometrijske složene filmove na rotirajućim podlogama.

Hlađenje i ventilacija:

Kontrolirano hlađenje odvija se pod zaštitom inertnog plina prije odzračivanja komore, sprječavajući oksidaciju svježe premazanih dijelova.

 

Filmski materijali i svojstva premaza

Sustav podržava rasporede više-metalnih katoda, omogućavajući jednoslojne, višeslojne, nano-kompozitne i gradijentne filmske arhitekture:

Multi-Arc Vacuum Deposition Equipment

TiN (titanijev nitrid):

Standardni zlatni premaz; tvrdoća 2200–2400 HV; koeficijent trenja 0,4. Primarna upotreba: opći alati za rezanje i mehanički potrošni dijelovi.

Multi-Arc Ion Thin Film System

TiAlN (titan-aluminijev nitrid):

Otpornost na-visoku temperaturu oksidacije do 850 C; tvrdoća 3000–3300 HV. Primarna upotreba: umeci za suhu-brzinsku obradu i ventili motora.

Multi-Arc Ion Thin Film System

CrN / CrAlN (kromov nitrid):

Izvrsna otpornost na koroziju i nisko unutarnje naprezanje; svojstva protiv-napadanja obojenih metala. Primarna upotreba: kalupi za oblikovanje, klipni prstenovi i komponente tekstilnih strojeva.

Multi-Arc PVD Thin Film Equipment

ZrN / TiCN:

Niska hrapavost površine (Ra<= 0.05 um); decorative stability and biocompatibility. Primary use: medical surgical instruments and premium sanitary hardware.

 

 

Prijave

 

Alati za precizno rezanje:

Krajnja glodala, svrdla, ploče za kuhanje i izmjenjivi umeci koji zahtijevaju produljeni vijek trajanja alata pod visokim toplinskim opterećenjima.

01

Automobilski pogonski sklop:

Klipne osovinice, podizači, komponente za ubrizgavanje goriva i površine zupčanika zahtijevaju smanjeno granično trenje i otpornost na habanje.

02

Kalupi i matrice:

Kalupi za brizganje plastike, kalupi za utiskivanje i-umetci za tlačno lijevanje koji zahtijevaju otpornost na habanje ljepila i toplinski zamor.

03

Zrakoplovne komponente:

Lopatice turbine i titanijski pričvršćivači koji rade u agresivnim korozivnim i visoko{0}}napetim okruženjima.

04

 

Prilagodba i konfiguracija sustava
 

Standardne kataloške stavke rijetko savršeno odgovaraju namjenskim tvorničkim izgledima. Konfiguracije opreme su prilagođene na temelju specifične geometrije komponenti, ciljanog vremena ciklusa i ograničenja objekta:

Geometrija komore:

Osmerokutne ili cilindrične komore od nehrđajućeg čelika (SUS304/SUS316L) s dvostrukim-vodenim{3}}stjenkama za hlađenje.

Izgled izvora:

Side-mounted or bottom-driven arc sources with magnetic steering coils to minimize macroparticle generation and ensure high cathode utilization (>60%).

Pričvršćivanje podloge:

Mehanizmi planetarne rotacije (3-osi) ili jednorotacijski mehanizmi koje pokreću magnetski protok tekućine kako bi se zajamčila ravnomjerna pokrivenost premazom na složenim 3D geometrijama.

Opcije skupa za pumpanje:

Roots puhala, pumpe s rotirajućim lopaticama, kriogene pumpe ili turbomolekularne pumpe konfigurirane da zadovolje stroga vremena ciklusa-ispumpavanja.

 

Protokoli kontrole kvalitete i testiranja

Svaki stroj prolazi strogi tvornički prijemni test (FAT) prije slanja, dokumentiran za pregled kupca:

01

Ispitivanje integriteta vakuuma:

Detekcija curenja helija pomoću masene spektrometrije (brzina curenja<= 1 x 10^-10 Pa*m3/s).

02

Električna sigurnost i sagorijevanje-:

72-satno kontinuirano suho napajanje napajanja, blokade vodenog hlađenja i logike automatizacije PLC-a.

03

Provjera premaza (-kućni laboratorij):

Uzorci testirani putem Calo-testa (debljina filma), Rockwell udubljenja (snaga prianjanja) i nanoudubljenja (tvrdoća).

Multi-Arc PVD Thin Film Equipment

 

Instalacija, puštanje u rad i tehnička podrška

Smjernice za pripremu mjesta:

Navedeni su detaljni nacrti rasporeda vodova za protok/tlak rashladne vode, komprimirani zrak, ispušnu ventilaciju i zahtjeve za električne sabirnice.

SAT i puštanje u rad:

Instalaciju na-licu mjesta (ispitivanje prihvatljivosti na gradilištu), vakuumsku kalibraciju i primopredaju osnovnog recepta provode viši PVD procesni inženjeri.

Trening procesa:

Praktična-obuka operatera koja pokriva rasporede zamjene katoda, preventivno održavanje vakuuma, rješavanje problema i osnovnu optimizaciju recepata.

Podrška za rezervne dijelove:

Kritične habajuće komponente (katode, štitovi, izolatori i brtve) na zalihama za globalnu otpremu unutar 48 sati.

 

 

 

Često postavljana pitanja

 

 

P: Kako suzbijate makročestice (kapljice) svojstvene više-lučnoj ionskoj ploči?

O: Koristimo podesiva magnetska upravljačka polja u kombinaciji s optimiziranim valnim oblicima struje luka za stabilizaciju katodnih točaka i smanjenje emisije kapljica. Za ultra-glatke optičke ili medicinske primjene, sustav se može integrirati s izvorima filtriranog katodnog luka (FCA).

P: Koje je tipično vrijeme obrade za prilagođenu konfiguraciju komore?

O: Standardne konfiguracije isporučuju se u roku od 16 do 20 tjedana. Za potpuno prilagođene dimenzije komora, automatizirana robotska sučelja za punjenje ili specijalizirane kriogene crpne sustave potrebno je 24 do 30 tjedana od odobrenja P&ID nacrta.

P: Može li sustav pohraniti više recepata za premazivanje za različite skupine dijelova?

O: Da. Industrijski PLC sustav upravljanja pohranjuje do 100 pojedinačnih procesnih recepata. To omogućuje automatizirano izvođenje jednim-dodirom preko kontrolera protoka mase plina (MFC-ovi), povećanje prednapona, sekvenciranje struje luka i određena vremena koraka.

Dobro smo-poznati kao jedan od vodećih proizvođača i dobavljača opreme za tankoslojne ionske multi{1}}luke u Kini. Ako namjeravate kupiti prilagođenu multi{3}}arc ion tankoslojnu opremu proizvedenu u Kini, dobrodošli da dobijete cjenik naše tvornice. Za savjetovanje o cijeni, kontaktirajte nas.

Pošaljite upit
Kontaktirajte nasako imate bilo kakvih pitanja

Možete nas kontaktirati putem telefona, e-pošte ili online obrasca u nastavku. Naš stručnjak će vas uskoro kontaktirati.

Kontaktirajte odmah!