Pregled proizvoda
PVD kompozitna oprema za tanki film industrijska je platforma za vakuumsko taloženje projektirana za taloženje više{0}}slojnih, legura i nanokompozitnih tankih filmova. Integrirajući magnetronsko raspršivanje i izvore katodnog luka unutar jedne vakuumske komore, sustav omogućuje preciznu kontrolu mikrostrukture filma, zaostalog naprezanja i adhezije na površini. Izgrađena za kontinuiranu proizvodnju i napredno istraživanje i razvoj, platforma se prilagođava metalnim, keramičkim i polimernim podlogama s skalabilnom geometrijom komore.
-
![PVD kompozitna oprema za vakuumsko taloženje]()
PVD kompozitna oprema za vakuumsko taloženjeOva industrijska PVD kompozitna platforma za vakuumsko taloženje integrira više tehnika taloženja u okruženje jedne komore za taloženje jednolikih, više{0}}slojnih metalnih, legura ili...vidi više -
![PVD hibridni sustav taloženja tankog filma]()
PVD hibridni sustav taloženja tankog filmaPVD Hybrid Thin Film Deposition System integrira toplinsko isparavanje, isparavanje elektronskim snopom (e-beam) i RF/DC magnetron raspršivanje unutar jedne vakuumske arhitekture. Ova platforma...vidi više -
![PVD više{0}}procesna oprema za tanki film]()
PVD više{0}}procesna oprema za tanki filmPVD Multi{0}}Process Thin Film Equipment integrirana je platforma za vakuumsko taloženje projektirana za kombiniranje višestrukih tehnika izrade tankih{1}}filmova—uključujući RF/DC raspršivanje...vidi više -
![PVD oprema za taloženje kompozita]()
PVD oprema za taloženje kompozitaIndustrijska PVD oprema za taloženje kompozita projektirana je za izradu više-komponentnih, više-slojnih i nano-kompozitnih tankih-slojeva. Sustav integrira toplinsko isparavanje, e-isparavanje...vidi više -
![PVD kompozitni sustav tankog filma]()
PVD kompozitni sustav tankog filmaSustav industrijskog-vakuumskog premazivanja koji integrira magnetronsko raspršivanje (RF/DC/HiPIMS) i isparavanje katodnim lukom. Dizajniran za kontinuirano, više{2}}taloženje slojeva, legura i...vidi više -
![PVD kompozitna oprema za tanki film]()
PVD kompozitna oprema za tanki filmPVD Composite Thin Film Equipment industrijska je vakuumska platforma dizajnirana za sintetiziranje više-slojnih, legura i gradiranih tankih filmova. Izgrađen na modularnoj arhitekturi od...vidi više
Tehničke specifikacije
|
Parametar |
Raspon specifikacija |
|
Krajnji vakuumski tlak |
<= 5.0 x 10^-5 Pa (Cryogenic/Turbomolecular pumping suite) |
|
Radni tlak |
0,1 Pa - 5.0 Pa |
|
Temperatura podloge |
Ambijentalna do 800 stupnjeva (zatvorena-petlja kontrolirana PID-om) |
|
Izvori taloženja |
Podesivo: DC/RF magnetronsko raspršivanje, pulsni DC, filtrirani katodni luk |
|
Ujednačenost debljine |
< +/- 3% across standard 300 mm substrate carrier |
|
Materijal komore |
Nehrđajući čelik 304L/316L, mehanički brušen i elektro{2}}poliran (Ra<= 0.4 um) |
|
Integracija napajanja |
MF generatori (10-100 kHz), RF generatori (13,56 MHz), pulsni DC bias |
|
Kontrolni sustav |
Industrijski PLC + IPC s automatiziranim izvršavanjem recepata, nadzorom blokade i bilježenjem šaržnih podataka |
Proces taloženja kompozita
Sustav koristi hibridnu arhitekturu fizičkog taloženja iz pare koja kombinira tehnologiju magnetronskog raspršivanja i katodnog luka.
Sinergija-izvora:
Simultani ili sekvencijalni rad višestrukih katoda omogućuje nagle ili postupne prijelaze kompozicije preko hrpe filma.
Pre-čišćenje ionskim jetkanjem:
RF ili DC faze čišćenja plazmom uklanjaju izvorne okside i površinske kontaminante prije taloženja kako bi se maksimalno povećalo prianjanje premaza-na-podlogu.
Kontrola reaktivnog taloženja:
Optička emisijska spektroskopija zatvorene{0}}petlje (OES) regulira ubrizgavanje reaktivnog plina (O2, N2, C2H2) kako bi se održala stabilna stehiometrija spoja i spriječilo trovanje cilja.
Pomicanje podloge:
Sinkronizirani pulsni izvori napajanja bombardiraju rastući film visoko-energetskim ionima, zgušnjavajući mikrostrukturu i prilagođavajući zaostalo tlačno naprezanje.
Filmski materijali
Oprema podržava širok spektar ciljanih materijala za prilagođene funkcionalne zahtjeve:
Nitridi i karbidi prijelaznih metala:
TiN, TiAlN, CrN, ZrN, TiCN za otpornost na habanje i koroziju.
Nanokompozitni i višeslojni sustavi:
TiSiN, AlTiSiN, metalni/keramički nanoslojevi za izuzetnu tvrdoću i toplinsku stabilnost na-visokim temperaturama.
Transparentni vodljivi oksidi (TCO):
ITO, AZO, IGZO za optoelektroničke i fotonaponske primjene.
Čisti metali i legure:
Ti, Cr, Al, Cu, nehrđajući čelik, NiCr za slojeve za zaštitu od električnog kontakta i difuzije.
Prijave
Alati za precizno rezanje:
Nanošenje super{0}}tvrdih premaza s niskim-trenjem (npr. TiAlN) na karbidne umetke, svrdla i-glodala za produljenje radnog vijeka pod visokim toplinskim opterećenjima.
Automobilske komponente:
Folije-za smanjenje trenja i{1}}otporne na habanje na klipnim prstenovima, dijelovima za ubrizgavanje goriva i sklopovima zupčanika.
Optoelektronika i zasloni:
Vodljivi oksidni slojevi niske-otpornosti, visoke-transmisije za dodirne ploče i supstrate solarnih ćelija.
Medicinski uređaji:
Biokompatibilni i{0}}otporni premazi na kirurškim instrumentima i ortopedskim implantatima.
Prilagodba i konfiguracija sustava
Inženjerske konfiguracije prilagođene su specifičnim ograničenjima proizvodnog pogona i recepturama procesa:
Veličina komore:
Cilindrične ili pravokutne opcije komore u rasponu od šaržnih sustava za istraživanje i razvoj (500 mm promjera) do velikih-sustava za zaključavanje proizvodnog opterećenja- (1000 mm+).
01
Odabir paketa pumpanja:
Usklađivanje korijenskih puhala, turbomolekularnih pumpi i kriogenih pumpi na temelju potrebnih vremena-zastoja pumpe i profila opterećenja plinom.
02
Pričvršćivanje podloge:
Prilagođeni planetarni stupnjevi rotacije, 3-osna satelitska rotacija ili moduli-to-roll dizajnirani za složene 3D geometrije ili kontinuirane mreže.
03
Razina automatizacije:
Polu-automatizirane konfiguracije ručnog punjenja ili potpuno automatizirani vakuumski prijenosni sustavi s robotskim rukovanjem supstratom.
04
Proizvodnja i kontrola kvalitete
Detekcija curenja:
Svaka vakuumska komora podvrgava se ispitivanju curenja helijevim masenim spektrometrom do praga od < 1 x 10^-10 Pa * m^3 / s.
Pregled zavara:
Vakuum-bočni zavari su TIG zavareni, brušeni i polirani, nakon čega slijedi rendgenska -kontrola ili penetrantska kontrola na zahtjev.
Električna i sigurnosna usklađenost:
Upravljačke ploče izrađene u skladu s NFPA 79 ili CE/IEC standardima, s hardverskim blokadama za protok vode, tlak plina i električnu sigurnost.
Tvorničko prijemno ispitivanje (FAT):
-Testiranje prije otpreme uključuje 72-satno kontinuirano sušenje-ciklično pokretanje, provjeru performansi vakuuma i probno nanošenje premaza korištenjem recepata koje je specificirao klijent.
Smjernice za pripremu mjesta:Sveobuhvatni dokument o zahtjevima objekta pruža detaljna sučelja komunalnih usluga (protok/tlak vode za hlađenje, električno opterećenje, komprimirani zrak, ispušni plin).
Puštanje u rad na-licu mjesta:Inženjeri terenske službe provode mehaničko poravnanje, provjeru curenja vakuuma, električne spojeve i početnu kalibraciju.
Podešavanje recepta procesa:-Suradnja na licu mjesta s klijentskim metalurzima i procesnim inženjerima za zaključavanje ciljane debljine filma, naprezanja i parametara tvrdoće.
Podrška životnog ciklusa:Sučelje za daljinsku dijagnostiku, lokalizirani popis rezervnih dijelova i planirani programi preventivnog održavanja.
FAQ
Poznati smo-kao jedan od vodećih proizvođača i dobavljača opreme za pvd kompozitni tanki film u Kini. Ako namjeravate kupiti prilagođenu pvd kompozitnu opremu za tanki film proizvedenu u Kini, dobrodošli ste da dobijete cjenik iz naše tvornice. Za savjetovanje o cijeni, kontaktirajte nas.
Tanka filmska oprema za senzorske primjene, oprema za mjerenje hrapavosti tankog filma, Tanka oprema za raspršivanje filma
