Pregled proizvoda

 

PVD kompozitna oprema za tanki film industrijska je platforma za vakuumsko taloženje projektirana za taloženje više{0}}slojnih, legura i nanokompozitnih tankih filmova. Integrirajući magnetronsko raspršivanje i izvore katodnog luka unutar jedne vakuumske komore, sustav omogućuje preciznu kontrolu mikrostrukture filma, zaostalog naprezanja i adhezije na površini. Izgrađena za kontinuiranu proizvodnju i napredno istraživanje i razvoj, platforma se prilagođava metalnim, keramičkim i polimernim podlogama s skalabilnom geometrijom komore.

 
 
Tehničke specifikacije

 

Parametar

Raspon specifikacija

Krajnji vakuumski tlak

<= 5.0 x 10^-5 Pa (Cryogenic/Turbomolecular pumping suite)

Radni tlak

0,1 Pa - 5.0 Pa

Temperatura podloge

Ambijentalna do 800 stupnjeva (zatvorena-petlja kontrolirana PID-om)

Izvori taloženja

Podesivo: DC/RF magnetronsko raspršivanje, pulsni DC, filtrirani katodni luk

Ujednačenost debljine

< +/- 3% across standard 300 mm substrate carrier

Materijal komore

Nehrđajući čelik 304L/316L, mehanički brušen i elektro{2}}poliran (Ra<= 0.4 um)

Integracija napajanja

MF generatori (10-100 kHz), RF generatori (13,56 MHz), pulsni DC bias

Kontrolni sustav

Industrijski PLC + IPC s automatiziranim izvršavanjem recepata, nadzorom blokade i bilježenjem šaržnih podataka

 

Proces taloženja kompozita

Sustav koristi hibridnu arhitekturu fizičkog taloženja iz pare koja kombinira tehnologiju magnetronskog raspršivanja i katodnog luka.

Sinergija-izvora:

Simultani ili sekvencijalni rad višestrukih katoda omogućuje nagle ili postupne prijelaze kompozicije preko hrpe filma.

 

Pre-čišćenje ionskim jetkanjem:

RF ili DC faze čišćenja plazmom uklanjaju izvorne okside i površinske kontaminante prije taloženja kako bi se maksimalno povećalo prianjanje premaza-na-podlogu.

Kontrola reaktivnog taloženja:

Optička emisijska spektroskopija zatvorene{0}}petlje (OES) regulira ubrizgavanje reaktivnog plina (O2, N2, C2H2) kako bi se održala stabilna stehiometrija spoja i spriječilo trovanje cilja.

Pomicanje podloge:

Sinkronizirani pulsni izvori napajanja bombardiraju rastući film visoko-energetskim ionima, zgušnjavajući mikrostrukturu i prilagođavajući zaostalo tlačno naprezanje.

 

Filmski materijali

Oprema podržava širok spektar ciljanih materijala za prilagođene funkcionalne zahtjeve:

PVD Hybrid Thin Film Deposition System

Nitridi i karbidi prijelaznih metala:

TiN, TiAlN, CrN, ZrN, TiCN za otpornost na habanje i koroziju.

 

 
PVD Composite Deposition Equipment

Nanokompozitni i višeslojni sustavi:

TiSiN, AlTiSiN, metalni/keramički nanoslojevi za izuzetnu tvrdoću i toplinsku stabilnost na-visokim temperaturama.

 
PVD Composite Thin Film System

Transparentni vodljivi oksidi (TCO):

ITO, AZO, IGZO za optoelektroničke i fotonaponske primjene.

 
PVD Composite Thin Film Equipment

Čisti metali i legure:

Ti, Cr, Al, Cu, nehrđajući čelik, NiCr za slojeve za zaštitu od električnog kontakta i difuzije.

 
Prijave
 
 
 

Alati za precizno rezanje:

Nanošenje super{0}}tvrdih premaza s niskim-trenjem (npr. TiAlN) na karbidne umetke, svrdla i-glodala za produljenje radnog vijeka pod visokim toplinskim opterećenjima.

 
 

Automobilske komponente:

Folije-za smanjenje trenja i{1}}otporne na habanje na klipnim prstenovima, dijelovima za ubrizgavanje goriva i sklopovima zupčanika.

 
 

Optoelektronika i zasloni:

Vodljivi oksidni slojevi niske-otpornosti, visoke-transmisije za dodirne ploče i supstrate solarnih ćelija.

 
 

Medicinski uređaji:

Biokompatibilni i{0}}otporni premazi na kirurškim instrumentima i ortopedskim implantatima.

 

 

Prilagodba i konfiguracija sustava

Inženjerske konfiguracije prilagođene su specifičnim ograničenjima proizvodnog pogona i recepturama procesa:

Veličina komore:

Cilindrične ili pravokutne opcije komore u rasponu od šaržnih sustava za istraživanje i razvoj (500 mm promjera) do velikih-sustava za zaključavanje proizvodnog opterećenja- (1000 mm+).

01

Odabir paketa pumpanja:

Usklađivanje korijenskih puhala, turbomolekularnih pumpi i kriogenih pumpi na temelju potrebnih vremena-zastoja pumpe i profila opterećenja plinom.

02

Pričvršćivanje podloge:

Prilagođeni planetarni stupnjevi rotacije, 3-osna satelitska rotacija ili moduli-to-roll dizajnirani za složene 3D geometrije ili kontinuirane mreže.

03

Razina automatizacije:

Polu-automatizirane konfiguracije ručnog punjenja ili potpuno automatizirani vakuumski prijenosni sustavi s robotskim rukovanjem supstratom.

04

 

Proizvodnja i kontrola kvalitete
 

Detekcija curenja:

Svaka vakuumska komora podvrgava se ispitivanju curenja helijevim masenim spektrometrom do praga od < 1 x 10^-10 Pa * m^3 / s.

Pregled zavara:

Vakuum-bočni zavari su TIG zavareni, brušeni i polirani, nakon čega slijedi rendgenska -kontrola ili penetrantska kontrola na zahtjev.

Električna i sigurnosna usklađenost:

Upravljačke ploče izrađene u skladu s NFPA 79 ili CE/IEC standardima, s hardverskim blokadama za protok vode, tlak plina i električnu sigurnost.

Tvorničko prijemno ispitivanje (FAT):

-Testiranje prije otpreme uključuje 72-satno kontinuirano sušenje-ciklično pokretanje, provjeru performansi vakuuma i probno nanošenje premaza korištenjem recepata koje je specificirao klijent.

 

 

Instalacija i tehnička podrška

Smjernice za pripremu mjesta:Sveobuhvatni dokument o zahtjevima objekta pruža detaljna sučelja komunalnih usluga (protok/tlak vode za hlađenje, električno opterećenje, komprimirani zrak, ispušni plin).


Puštanje u rad na-licu mjesta:Inženjeri terenske službe provode mehaničko poravnanje, provjeru curenja vakuuma, električne spojeve i početnu kalibraciju.


Podešavanje recepta procesa:-Suradnja na licu mjesta s klijentskim metalurzima i procesnim inženjerima za zaključavanje ciljane debljine filma, naprezanja i parametara tvrdoće.


Podrška životnog ciklusa:Sučelje za daljinsku dijagnostiku, lokalizirani popis rezervnih dijelova i planirani programi preventivnog održavanja.

PVD Composite Vacuum Deposition Equipment

 

 

FAQ

 

 

P: Koje je tipično vrijeme-zastoja pumpe za postizanje osnovnog tlaka?

O: Koristeći standardne visoko{0}}vakuumske konfiguracije (turbomolekularne ili kriogene pumpe uparene s korijenskim/rotirajućim pumpama), komora se evakuira iz atmosfere na < 5,0 x 10^-4 Pa unutar 25 do 40 minuta, ovisno o volumenu komore i opterećenju ispuštanja vlage.

P: Može li se sustav automatski prebacivati ​​između reaktivnog i ne-reaktivnog načina raspršivanja?

O: Da. PLC upravljački softver dinamički upravlja kontrolerima protoka mase (MFC) i izlazima napajanja, omogućujući automatizirani prijelaz između taloženja metala i stvaranja reaktivnog spoja unutar jednog procesnog ciklusa.

P: Koje geometrije supstrata može prihvatiti standardni stupanj planetarne rotacije?

O: Standardni 3-osni planetarni uređaj rukuje složenim 3D komponentama kao što su alati za rezanje i automobilski ventili. Prilagođene šablone mogu se konstruirati za ravne podloge do 400 mm x 400 mm ili cilindrične role.

P: Kako osiguravate ujednačenost debljine filma u velikim serijama?

O: Ujednačenost se postiže optimiziranom udaljenošću-od-podloge, simulacijom lokaliziranog profila magnetskog polja i rotacijom planeta s više{2}}osa. Stvarna ujednačenost se provjerava ispitivanjem uzoraka svjedoka tijekom FAT-a.

P: Koji su komunalni zahtjevi za standardnu ​​industrijsku jedinicu?

O: Obično zahtijeva 3-fazni 380V/480V (50/60Hz), dovod ohlađene vode za hlađenje (otprilike 15 do 20 stupnjeva pri 3 do 4 bara), komprimirani zrak (6 bara) za pneumatske ventile i čisti suhi zrak ili dušik za ventilaciju. Točna opterećenja ovise o konfiguraciji napajanja.

Poznati smo-kao jedan od vodećih proizvođača i dobavljača opreme za pvd kompozitni tanki film u Kini. Ako namjeravate kupiti prilagođenu pvd kompozitnu opremu za tanki film proizvedenu u Kini, dobrodošli ste da dobijete cjenik iz naše tvornice. Za savjetovanje o cijeni, kontaktirajte nas.

Pošaljite upit
Kontaktirajte nasako imate bilo kakvih pitanja

Možete nas kontaktirati putem telefona, e-pošte ili online obrasca u nastavku. Naš stručnjak će vas uskoro kontaktirati.

Kontaktirajte odmah!