Pregled proizvoda
IAE-Serija Ion-Thin Film Evaporation Assisted Evaporation Thin Film Equipment integrira fizičko taloženje parom (PVD) s-bombardiranjem ionskom zrakom u stvarnom vremenu. Usmjeravanjem energetskih iona na supstrat tijekom toplinskog ili -isparavanja elektronskim snopom, sustav prenosi zamah na kondenzacijske adatome, restrukturirajući mikrostrukturu rastućeg filma.
Ovaj prijenos kinetičke energije eliminira stupne praznine, potiskuje apsorpciju vlage i blokira indeks loma u odnosu na promjene vlažnosti okoline. Izgrađena za kontinuirani rad u više-smjena u proizvodnim linijama za optičke i poluvodiče, platforma obrađuje podloge u rasponu od visoko{2}}precizne laserske optike do silicijskih pločica.
-
![Ionska{0}}oprema za vakuumsko isparavanje]()
Ionska{0}}oprema za vakuumsko isparavanjeIonski-sustav potpomognutog vakuumskog isparavanja integrira visoko-vakuumske izvore termalne ili-elektronske zrake isparavanja s Kaufman-tipom ili End-Hall ionskim izvorom. Bombardiranjem...vidi više -
![Ionski-sustav taloženja tankog filma]()
Ionski-sustav taloženja tankog filmaIonski{0}}Sustav potpomognutog taloženja tankog filma integrira više-džepne elektronske-snope/toplinsko isparavanje s-izvorom iona End-Hall ili Kaufman-tipa visokih-učinkovitosti. Tijekom fizičkog...vidi više -
![Oprema za isparavanje potpomognuta ionskom zrakom]()
Oprema za isparavanje potpomognuta ionskom zrakomSustav IBAE kombinira snop-elektrona ili toplinsko isparavanje s integriranim izvorom-snopa iona širokog snopa. Istodobno bombardiranje ionima tijekom rasta filma prenosi kinetičku energiju na...vidi više -
![Ionska{0}}oprema za taloženje tankog filma]()
Ionska{0}}oprema za taloženje tankog filmaIonska-oprema za potpomognuto taloženje tankog filma IA-serije integrira toplinsko isparavanje-elektronske zrake s Kaufmanovim ili End-Hallovim izvorom iona. Energično ionsko bombardiranje...vidi više -
![Sustav tankog filma-potpomognutog isparavanja]()
Sustav tankog filma-potpomognutog isparavanjaSustav tankog filma potpomognutog ionskom{0}}evaporacijom (IAE) integrira fizičko taloženje parom (PVD) s bombardiranjem energetskim ionskim snopom. Tijekom toplinskog ili-isparavanja snopom...vidi više -
![Oprema za-potpomognuto ionsko isparavanje tankog filma]()
Oprema za-potpomognuto ionsko isparavanje tankog filmaIndustrijski-sustav potpomognutog-isparavanja (IAE) koji integrira isparavanje-džepnih-elektronskih zraka s energetskim izvorom ionskih zraka (End-Hall ili Kaufmanova konfiguracija). Ionsko...vidi više
Tehničke specifikacije
|
Parametar |
Specifikacija |
|
Krajnji osnovni tlak |
< 5.0 × 10⁻⁵ Pa (achieved within 45 mins via cryogenic/turbomolecular pumping) |
|
Izvori isparavanja |
Više{0}}džepni E-pištolj (4 × 15cc do 40cc) i otporni toplinski izvori |
|
Vrsta izvora iona |
Kraj-Hall/Kaufman-izvor iona bez mreže (napon snopa: 50 – 1500 V, ionska struja: 0,1 – 3 A) |
|
Kontrola debljine filma |
Kvarcna mikrovaga (QCM) + optički nadzorni sustav (OMS), preciznost ± 0,1 nm |
|
Pričvršćivanje podloge |
Učvršćenje planetarne rotacije, radijus kupole prilagođen geometriji podloge |
|
Zagrijavanje podloge |
Niz zračećih grijača, do 350 stupnjeva s jednolikošću PID od ± 2 stupnja |
|
Kontrolna arhitektura |
PLC + industrijsko računalo, automatizirano izvršavanje recepata, bilježenje podataka usklađeno sa SECS/GEM |
Ionski-proces taloženja
Stvaranje pare:
Materijal se isparava iz lonca s e-zrakom ili termalnog čamca pri kontroliranim brzinama taloženja (0,1 – 2,0 nm/s).
01
Prijenos zamaha:
Energetski ioni (Ar⁺, O⁺) bombardiraju površinu supstrata istodobno s pristiglim protokom pare iz E-zraka ili toplinskog izvora.
02
Modifikacija mikrostrukture:
Utjecaj iona povećava pokretljivost površine adatoma, sprječava rast zrna u obliku stupaca i postiže gustoću gotovo -nasipne (gustoća pakiranja > 99%).
03
Stehiometrijska korekcija:
Reaktivna ionska pomoć (O₂) osigurava potpunu oksidaciju sub-oksida u filmovima metalnih oksida (npr. Ta₂O5, Nb₂O₅, SiO₂), eliminirajući apsorpcijske trake u UV-NIR spektru.
04
Filmski materijali
Oksidi:
SiO₂, Ta₂O5, TiO₂, Nb₂O5, HfO₂ (Visoka stabilnost indeksa loma za optičke filtere).
Fluoridi:
MgF₂, LaF3 (slojevi s niskim indeksom loma za širokopojasne AR premaze).
Metali:
Al, Ag, Au, Ti (Adhezijski slojevi i metalni reflektori).
Prijave
Laserska i precizna optika:
Prolazni filtri, dikroična zrcala i laserski zaštitni premazi koji zahtijevaju visok-prag oštećenja uzrokovanog laserom (LIDT) i nulti spektralni pomak pod toplinskim stresom.
LiDAR pokrovno staklo:
Izdržljivi tanki filmovi protiv-refleksije (AR) i protiv-prljanja otporni na oštre vanjske vremenske uvjete.
Pakiranje poluvodiča:
Slojevi za -inkapsulaciju barijere protiv vlage i metalni kontaktni jastučići taloženi na niskim temperaturama podloge.
Biomedicinski senzori:
Biokompatibilne optičke interferencijske prevlake za dijagnostičke mikrofluidne čipove.
Prilagodba
Komore i unutarnji rasporedi projektirani su prema specifičnim proizvodnim otiscima i zahtjevima procesa:
Dimenzije komore:
Skalabilno od jedinica za istraživanje i razvoj R=600 mm do proizvodnih sustava visokog{2}}kapaciteta R=1200 mm.
Paketi pumpanja:
Može se konfigurirati s Maglev turbomolekularnim pumpama, kriopumpama i potpornim linijama Roots puhala na temelju zahtjeva za opterećenje plinom.
Integracija izvora:
Dvo-konfiguracije izvora iona ili postavke ko-taloženja za složene legure i više{2}}slojne gradijentne filmove.
Razina automatizacije:
Integracija s automatiziranim sustavima za prijenos supstrata u čistim sobama (EFEM / Vacuum cluster tools).
Kontrola kvalitete
Detekcija curenja:
Svaka vakuumska komora testirana je na propuštanje-helija pomoću masenog spektrometra (brzina propuštanja < 1,0 × 10⁻¹⁰ Pa·m³/s).
Sljedivost komponenti:
Vakuumski ventili, regulatori masenog protoka (MFC) i izvori napajanja iz kvalificiranih Tier-1 industrijskih marki (MKS, Inficon, PDV).
Tvorničko prijemno ispitivanje (FAT):
Pokrenite-testove koji provjeravaju osnovni tlak, krivulju pumpanja, stabilnost izvora i 24-satnu kontinuiranu izdržljivost prazne komore prije otpreme.
Mjeriteljska validacija:
Uzorci su provjereni spektrofotometrom (transmitancija/refleksija) i mikroskopijom atomske sile (hrapavost površine Ra < 0,5 nm).
Instalacija i tehnička podrška
Vodič za pripremu mjesta:
Sveobuhvatni komunalni zahtjevi osigurani prije isporuke (protok/tlak vode za hlađenje, komprimirani zrak za čiste prostorije, distribucija energije, ispušni ventil).
Puštanje u rad:
Inženjeri terenske službe rukuju mehaničkim sastavljanjem, vakuumskim pečenjem-, kalibracijom ionske zrake i potpisom-recepata početnog procesa-na-licu mjesta.
Obuka operatera:
Strukturirana praktična{0}}obuka koja pokriva rutinsko održavanje, sigurnost usisavanja, rad sa softverom i rješavanje problema.
Podrška životnog ciklusa:
Udaljeno dijagnostičko sučelje za brzo rješavanje problema sa softverom; regionalna zaliha kritičnih habajućih predmeta (filamenti, lončići, štitnici) otpremljena unutar 48 sati.
FAQ
Poznati smo-kao jedan od vodećih proizvođača i dobavljača tankoslojne-opreme za ionsko isparavanje u Kini. Ako namjeravate kupiti prilagođenu opremu za tankoslojno-potpomognuto isparavanje proizvedenu u Kini, dobrodošli ste da dobijete cjenik naše tvornice. Za savjetovanje o cijeni, kontaktirajte nas.
