Oprema za tanki film poboljšan plazmom

Oprema za tanki film poboljšan plazmom

Detalji
Oprema za tanki film poboljšana plazmom je tehnologija čistog ionskog premaza (čista ionska zraka), visoko{0}}energetska tehnologija čišćenja ionskom zrakom (Ionbeam), tehnologija magnetronskog raspršivanja (Sputter) i magnetsko ograničeno taloženje pare (Magnetic confinement-CVD) četiri su tehnologije u jednoj, što je savršen spoj PVD tehnologije i CVD tehnologije.
Klasifikacija proizvoda
Oprema za tanki film
 
Pošaljite upit
Opis
Tehnički parametri

Opis opreme:

· Uvod u opremu:

 

 

Oprema za tanki film poboljšana plazmom je tehnologija čistog ionskog premaza (čista ionska zraka), visoko{0}}energetska tehnologija čišćenja ionskom zrakom (Ionbeam), tehnologija magnetronskog raspršivanja (Sputter) i magnetsko ograničeno taloženje pare (Magnetic confinement-CVD) četiri su tehnologije u jednoj, što je savršen spoj PVD tehnologije i CVD tehnologije.

Oprema za tanki film poboljšana plazmom pruža fleksibilniju kombinaciju procesa kako bi se zadovoljile različite potrebe složenih proizvoda, a njen snažni hibridni proces pruža više mogućnosti dizajnerima procesa.

Plazma pojačana tankoslojna oprema kratki uvod u funkcije opreme:

(1) Izvor čistog ionskog premaza, koristeći učinkovit sustav elektromagnetske filtracije, učinkovito uklanja čestice, dobiva ionsku zraku veće čistoće, pomaže u poboljšanju tvrdoće premaza i sile vezivanja;

(2) Visokoenergetski izvor čišćenja ionskom zrakom, koji koristi posebno dizajniranu strukturu pražnjenja, učinkovito kompatibilan s aktivacijom čišćenja plazmom, pomoćnom ionizacijom, neovisnim taloženjem i drugim funkcijama;

(3) Izvor magnetronskog raspršivanja, koristeći inovativni dizajn magnetskog polja, učinkovito poboljšava ciljnu stopu iskorištenja od više od 30%;

(4) Magnetski ograničeni izvor taloženja pare, pouzdana struktura koja se lako održava, može postići brzo i fino taloženje premaza.

Tipične vrste premaza:

(1) Me-TAC, metalni TAC kompozitni premaz, široko korišten

(2) Me-DLC, metalni DLC kompozitni premaz, široko korišten

(3) Me-TAC-DLC, TAC-DLC kompozitni premazi, dok dobivaju veću osnovnu tvrdoću i snagu vezivanja TAC-a, imaju brzinu taloženja i fini izgled DLC-a.

· Prednosti opreme:

 

 

Express Plasma poboljšana oprema za tanki film može ostvariti kombinaciju TAC-DLC, koja uvelike poboljšava silu vezivanja u usporedbi s jednostavnim CVD-om, istovremeno smanjujući veličinu čestica PVD-a i skraćujući vrijeme procesa.

ekspresna oprema za tanki film poboljšana plazmom može postići različite procese taloženja C filma, čistog ionskog nanošenja TAC, magnetskog zatvorenog pražnjenja DLC, anodnog sloja nanošenja ionskog izvora DLC, itd.

Express Plasma poboljšana tankoslojna oprema opremljena je elektromagnetskim uređajem za skeniranje i softverom, koji može kontrolirati smjer snopa plazme u fiksnoj točki i vremenu, uvelike poboljšavajući problem ujednačenosti premaza, a ujednačenost cijelog sloja filma u peći kontrolira se ispod ±5%;》Optimiziran dizajn magnetskog polja i dizajn hlađenja, jednostavno održavanje, dobra stabilnost opreme;

ekspresno prijateljsko sučelje za čovjek-stroj,-snimanje procesnih podataka u stvarnom vremenu, pogodno za kontrolu kvalitete, teška analiza, razvoj novih procesa;

express Ovaj projekt je oprema ključ u ruke, tvrtka Pure Source pruža cjelovito rješenje, uključujući stabilnu zrelu formulu premaza.

Polje primjene:

 

ekspresna sveučilišta i istraživački instituti, proizvodnja industrijskih potrošnih materijala, industrija potrošačke elektronike itd.;

express Ključne komponente motora za automobile i dizelska vozila;

express Ključni dijelovi tekstilne industrije;

express vrhunska-industrija alata za rezanje i medicinske opreme;

product-914-500

 

Vrsta premaza:

 

Vrsta premaza

Raspon temperature taloženja

Mikrotvrdoća (HV)

Snaga vezivanja premaza (N)

Maksimalna radna temperatura (stupnjevi)

Debljina (μm)

Super-te-C

<150℃

4000-5500

Veći ili jednak 35N

600 stupnjeva

(pod N2zaštita)

1-2

Normalni ta-C

<150℃

2000-4500

Veći ili jednak 35N

350 stupnjeva

2-4

Debeli ta-C

<150℃

1800-2200

Veći ili jednak 35N

350 stupnjeva

5.5-8

Ultra{0}}debeo ta-C

<150℃

1800-2200

Veći ili jednak 35N

350 stupnjeva

20-28

DLC

<120℃

1700-2500

Veći ili jednak 30N

250 stupnjeva

2-20

 

Popularni tagovi: oprema za tanki film poboljšan plazmom, proizvođači, dobavljači, tvornica opreme za tanki film poboljšan plazmom, Napredna oprema tankog filma, tanki filmski sustav, oprema za mjerenje otpora tankog filma, Tanka filmska produkcija, Tanka oprema za prikaz filma, oprema za otkrivanje oštećenja tankih filma

Pošaljite upit
Kontaktirajte nasako imate bilo kakvih pitanja

Možete nas kontaktirati putem telefona, e-pošte ili online obrasca u nastavku. Naš stručnjak će vas uskoro kontaktirati.

Kontaktirajte odmah!