Ionski-sustav taloženja tankog filma

Ionski-sustav taloženja tankog filma

Detalji
Ionski{0}}Sustav potpomognutog taloženja tankog filma integrira više-džepne elektronske-snope/toplinsko isparavanje s-izvorom iona End-Hall ili Kaufman-tipa visokih-učinkovitosti. Tijekom fizičkog taloženja iz parne pare (PVD), energetsko bombardiranje ionima prenosi zamah izravno na adatome na površini supstrata, eliminirajući praznine u stupčastoj mikrostrukturi i proizvodeći tanke filmove visoke-gustoće, ekološki stabilne.
Klasifikacija proizvoda
Oprema za-potpomognuto ionsko isparavanje tankog filma
 
Pošaljite upit
Opis
Tehnički parametri

Industrijski ionski{0}}sustav taloženja tankog filma


Ionski{0}}Sustav potpomognutog taloženja tankog filma integrira više-džepne elektronske-snope/toplinsko isparavanje s-izvorom iona End-Hall ili Kaufman-tipa visokih-učinkovitosti. Tijekom fizičkog taloženja iz parne pare (PVD), energetsko bombardiranje ionima prenosi zamah izravno na adatome na površini supstrata, eliminirajući praznine u stupčastoj mikrostrukturi i proizvodeći tanke filmove visoke-gustoće, ekološki stabilne.


Projektirana za preciznu izradu optike, poluvodičku mikroelektroniku i napredne objekte za istraživanje i razvoj, ova platforma pruža strogu ponovljivost od -do-serije za složene filtere optičkih smetnji, tvrde zaštitne premaze i slojeve za pasiviranje poluvodiča.

 

Tehničke specifikacije

 

Parametar

Specifikacija

Dimenzije komore

Φ 600 mm × 600 mm (dostupno prilagođeno skaliranje do Φ 1200 mm)

Krajnji osnovni tlak

< 5.0 × 10⁻⁵ Pa (Fully baked, dry pumping architecture)

Komplet za vakuumsko pumpanje

Magnetski levitirana turbomolekularna pumpa od 1600 L/s potpomognuta kombinacijom-suhe pumpe bez ulja

Izvori isparavanja

Više{0}}džepni E-pištolj (4 × 10 kW kontrola zahvata) i otporni toplinski izvori

Konfiguracija izvora iona

Kraj-Hall bez rešetke / Kaufmanov izvor s mrežom (energija snopa: 50–1500 eV, ionska struja: do 250 mA)

Učvršćenje podloge

Stupanj planetarne-rotacije promjenjive brzine s integriranim zagrijavanjem podloge do 350 stupnjeva

Ujednačenost debljine filma

< ± 1% (measured across Φ 400 mm effective deposition zone)

Sustav kontrole procesa

Jezgra PLC-a integrirana s industrijskim računalom na kojem se- pokreće SCADA softver za automatizaciju

 

Ključne značajke


Momentum-Poboljšana mikrostruktura:Kontrolirana pomoć iona povećava pokretljivost površine adatoma, učinkovito potiskujući rast poroznih stupnih zrna i eliminirajući pomake indeksa loma uzrokovane apsorpcijom vlage.


Dual{0}}Channel Thickness Feedback:Integrira dvostruke kvarcne kristalne mikrovage (QCM) sonde uz širokopojasne optičke nadzorne (BOM) priključke za-nanometarsku-regulaciju debljine i brzine u stvarnom vremenu.


Ultra{0}}čista vakuumska komora:Izrađen od nehrđajućeg čelika 304L s unutarnjim elektro{1}}poliranim završnim obradama, metalnim-zabrtvljenim PDV zasunima i pneumatskim metalnim-brtvenim prirubnicama za smanjenje ispuštanja plinova.


Regulacija reaktivnog plina zatvorene-petlje:Visoko{0}}precizni regulatori masenog protoka (MFC) mjere reaktivne plinove kisika, dušika i argona s sub-sccm rezolucijom za osiguranje stehiometrijskih slojeva spojeva.

 

Konfiguracija vakuumskog sustava


Linija grube obrade:Hermetički zatvorene, bezuljne suhe spiralne pumpe eliminiraju rizik od kontaminacije ugljikovodicima u fazama grube obrade i prednje linije.


Integracija visokog vakuuma:Maglev turbomolekularne pumpe spojene izravno na glavnu komoru preko-pneumatskih zapornih ventila visoke vodljivosti povećavaju brzinu pumpanja procesne i zaostale vodene pare.


Vakuumska dijagnostika:Redundantni Pirani i mjerači s hladnom katodom pružaju kontinuirano, unakrsno-kalibrirano bilježenje tlaka od atmosfere do 10⁻⁷ Pa.

 

Materijali za isparavanje i kompatibilnost podloge


Isparljivi materijali:Dielektrični oksidi: SiO₂, TiO₂, Ta₂O5, Nb₂O5, HfO₂, Al2O₃


Fluoridi:MgF₂, LaF3


Vatrostalni metali:Au, Ag, Al, Ti, Cr, NiCr


Podvrste supstrata:Praznine od optičkog stakla (BK7, taljeni silicij, kvarc), poluvodičke pločice (silicij, GaAs), jedno-kristalne podloge (LiNbO₃, safir) i precizne metalne komponente.

 

Prijave


Precizna optika:Uskopojasni filtri-s podjelom multipleksiranja (WDM) uskopojasnih valnih duljina, laserska linijska zrcala i izdržljivi-antirefleksijski (AR) premazi za-laserske sustave velike snage.


Izrada poluvodiča:Oksidni dielektrici vrata, metalni međuslojevi za adheziju i pasivni slojevi barijere-za zaštitu od vlage.


Napredna optoelektronika:Polarizatori tankog{0}}sloja, slojevi valovodnih obloga i filmovi s transparentnim vodljivim oksidom (TCO) na dodir-ploči.

 

Prilagodba


Kućišta komore:Okomite cilindrične staklenke-zvona, kvadratne kutije s dvostrukim-vratima ili dizajni prolaza-za čiste sobe.


Modularnost izvora:Prilagođeno brojanje džepova lončića, integracija katode za raspršivanje sekundarnog magnetrona ili specijalizirane postavke RF prednapona.


Arhitektura automatizacije:Prilagođena logika međusobnog zaključavanja PLC-a, razine sigurnosnih dopuštenja SCADA i protokoli za -bilježenje podataka o hostu SECS/GEM.

 

Kontrola kvalitete


Validacija komponente:Sve strukturne prirubnice, vakuumski prolazi, energetska elektronika i regulatori masenog protoka podvrgavaju se pojedinačnim dimenzionalnim i električnim testovima na stolu prije montaže.


Certifikacija curenja:Sastavljene komore podvrgavaju se ispitivanju curenja helijskim masenim spektrometrom; prag odbijanja mora ostati ispod 1,0 × 10⁻⁹ Pa·m³/s.


Tvorničko prijemno ispitivanje (FAT):Obvezna 72{1}}satna kontinuirana provjera-provjere rada koja pokriva krivulje crpljenja, mehaniku više{3}}osne planetarne rotacije, sigurnosne petlje za blokiranje i stabilnost emisije e-beam pištolja.

 

Instalacija i tehnička podrška


Dokumentacija:Isporučuje se s nacrtima mehaničkih sklopova, električnim shemama, P&ID rasporedima, izvornim registrima PLC logike i vodičima za preventivno održavanje.


Puštanje u rad na-licu mjesta:Terenski servisni inženjeri usmjeravaju mehaničko pozicioniranje, priključke na struju (struja, rashladna voda, komprimirani zrak) i početno{0}}pečenje sustava.


Trening procesa:Uključuje kalibraciju osnovne linije, podešavanje parametara izvora iona i obuku operatera o sigurnosnom protokolu.


Njega životnog ciklusa:Podrška za daljinsku dijagnostiku putem šifriranih VPN modula, regionalnih zaliha rezervnih dijelova i zakazanih revizija kalibracije.

 

FAQ

 

P: Kako se prati debljina sloja tijekom-pokreta višeslojnog taloženja?

O: Sustav koristi mikrovage s dvostrukim kvarcnim kristalom (QCM) za-praćenje brzine i debljine u stvarnom vremenu. Za složene skupove optičkih smetnji, integrira se sa širokopojasnim sustavima optičkog nadzora za ispravljanje završnih točaka slojeva izravno iz spektralnih krivulja prijenosa.

P: Koja je komunalna infrastruktura potrebna na mjestu postavljanja?

A: Električno napajanje: 3-fazno, 380V / 480V, 50/60Hz (konfigurirano prema regionalnim mrežnim standardima).
Rashladna voda: Temperatura 15–20 stupnjeva, minimalni protok 30 L/min, dovodni tlak 0,3–0,4 MPa.
Process Gases: Ultra-high purity (>99,999%) Ar, O₂ i N₂ čisto regulirani na 0,15 MPa.

P: Koje je standardno vrijeme isporuke od potvrde narudžbe do isporuke?

O: Standardne konfiguracije obično zahtijevaju 16 do 20 tjedana. Potpuno prilagođene dimenzije komore ili integracijske platforme s više-izvora zahtijevaju 24 do 30 tjedana, ovisno o odobrenju inženjerskog dizajna-i nabavi specijalizirane komponente.

 

Popularni tagovi: ionski-sustav potpomognutog taloženja tankog filma, Kina proizvođači, dobavljači, tvornica ionskog-sustava taloženja tankog filma, Fleksibilna tanko filmska oprema, industrijska oprema za tanke film, oprema tankog filma, Tanka filmska oprema za aplikacije za proizvodnju NEMS -a, Tanka filmska oprema za optičke primjene, oprema za ispitivanje tankih filmova

Pošaljite upit
Kontaktirajte nasako imate bilo kakvih pitanja

Možete nas kontaktirati putem telefona, e-pošte ili online obrasca u nastavku. Naš stručnjak će vas uskoro kontaktirati.

Kontaktirajte odmah!