Sustav IBAE kombinira snop-elektrona ili toplinsko isparavanje s integriranim izvorom-snopa iona širokog snopa. Istodobno bombardiranje ionima tijekom rasta filma prenosi kinetičku energiju na kondenzirajuće adatome, eliminirajući stupčaste mikrostrukture i proizvodeći tanke filmove -nasipne-gustoće s minimalnim spektralnim pomakom-induciranim vlagom.
Tehničke specifikacije
|
Parametar |
Specifikacija |
|
Osnovni tlak |
<= 5.0 x 10^(-5) Pa (achieved within 35 minutes) |
|
Radni tlak |
1,0 x 10^(-1) do 1,0 x 10^(-2) Pa |
|
Vrsta izvora iona |
Gridless End-Hall / Kaufmannov ionski izvor |
|
Energija ionskog snopa |
50 eV do 1500 eV (zatvorena-petlja stabilizirana) |
|
Gustoća struje ionskog snopa |
0 do 2,5 mA/cm^2 |
|
Izvori isparavanja |
Više{0}}džepni E-mišer (4 x 15 cc do 6 x 40 cc) / Otporni čamci |
|
Držač podloge |
Planetarna rotacijska naprava sa zagrijavanjem do 300 stupnjeva C |
|
Ujednačenost debljine |
<= plus/minus 0.5 percent over 400 mm diameter |
|
Kontrolni sustav |
Siemens S7-1500 PLC + industrijsko računalo (kontroler taloženja Inficon) |
Ključne značajke
Dvostruki način-bombardiranja:Prijenos kinetičke energije zgušnjava filmove na niskim temperaturama supstrata, štiteći osjetljivu optiku i polimerne supstrate.
Ionska stabilizacija zatvorene-petlje:Integrirani regulatori masenog protoka održavaju konstantan tok iona tijekom dugih proizvodnih ciklusa, osiguravajući dosljednost serije.
Modularna vakuumska komora:Struktura od nehrđajućeg čelika 304L s elektro -poliranom unutrašnjosti (Ra<= 0.2 um) and Conflat metal seals.
Automatizirano sekvenciranje:PLC-upravljani ciklusi-ispumpavanja, taloženja i odzračivanja minimiziraju radnu varijaciju.
Konfiguracija vakuumskog sustava
Pumpe za grubu obradu:Suho korijenje-bez ulja i pumpe s rotirajućim krilcima.
Pumpa visokog vakuuma:Magnetski levitirana turbomolekularna pumpa (1600 L/s).
mjerači:Kombinacija kapacitivnog manometra Pirani, hladne katode i Baratrona.
Ventiliranje:Pneumatski zasuni i kutni ventili s hardverskim sigurnosnim blokadama.
Materijali za isparavanje i kompatibilnost podloge
Oksidi:SiO2, Ta2O5, TiO2, Nb2O5, Al2O3
Fluoridi:MgF2, LaF3
Metali:Au, Ag, Al, Ti, Cr
Podloge:Taljeni silicijev dioksid, BK7, silicijske pločice, germanij, cink selenid (ZnSe) i poliimid otporan na toplinu-.
Prijave
Precizna optika:Uskopojasni filtri i DWDM premazi koji zahtijevaju stabilne središnje valne duljine.
Laserska optika:Reflektori s-oštećenjem- i anti{2}}premazi za refleksiju.
Poluvodič i fotonika:Dielektrični zaštitni slojevi, pasivizacija i optički valovod.
Sunčeva energija:Transparent Conductive oxide (TCO) modifikacija sučelja.
Prilagodba
Veličina komore:Skalabilni promjeri od 600 mm do 1200 mm.
Izgled izvora:Do tri e-zračna topa i više toplinskih izvora po platformi.
In-Mjeriteljstvo na licu mjesta:Integracija širokopojasnog optičkog nadzora (BOM) ili kvarcne kristalne mikrovage (QCM).
Automatizacija:Robotska sučelja za utovar supstrata u skladu sa SEMI standardima.
Kontrola kvalitete
Detekcija curenja:Ispitivanje masenim spektrometrom helija po komori (osjetljivost<= 1 x 10^(-10) Pa*m^3/s).
Izvor komponenti:Tier-1 industrijski brendovi (Inficon, MKS, Edwards, Siemens).
Tvornička prihvatljivost (FAT):72-satno neprekidno sušenje i mjerenje indeksa loma i ujednačenosti kontrolnog premaza prije otpreme.
Instalacija i tehnička podrška
Dokumentacija:Potpuni paket na engleskom jeziku uključujući električne sheme, P&ID dijagrame i PLC izvorne kodove.
Terenske usluge:Instalacija ključ u ruke, kalibracija vakuuma i podešavanje recepture od strane inženjera za primjenu.
Daljinska dijagnostika:Sigurni VPN modul za softver i rješavanje problema u procesu.
FAQ
P: Kako pomoć iona mijenja indeks loma oksida?
O: Energično ionsko bombardiranje izbacuje zarobljene zaostale plinove i zgušnjava mikrostrukturu, pomičući indeks loma filmova kao što su Ta2O5 i TiO2 bliže skupnim vrijednostima.
P: Koji je tipični interval održavanja za izvor iona?
O: Intervali održavanja kreću se od 150 do 300 sati obrade, ovisno o procesnim plinovima i radnoj gustoći snage.
P: Može li ovaj sustav upravljati procesima reaktivnog plina?
O: Da. Nezavisni regulatori masenog protoka ubrizgavaju reaktivne plinove (O2, N2) izravno u ionski izvor i zone komore, povezane sa sigurnosnim tlačnim prekidačima.
Popularni tagovi: oprema za isparavanje potpomognuta ionskim snopom, Kina proizvođači opreme za isparavanje potpomognuto snopom iona, dobavljači, tvornica
