Sustav industrijskog-vakuumskog premazivanja koji integrira magnetronsko raspršivanje (RF/DC/HiPIMS) i isparavanje katodnim lukom. Dizajniran za kontinuirano, više{2}}taloženje slojeva, legura i nano-kompozitnog tankog-sloja u proizvodnom opsegu.
Tehničke specifikacije
|
Parametar |
Specifikacija Vrijednost |
|
Krajnji vakuumski tlak |
<= 5.0 x 10^-4 Pa (Turbo-molecular and roots-rotary pump configuration) |
|
Dimenzije komore |
Prilagođene veličine od D 600 mm x 600 mm do D 1500 mm x 1500 mm (304/316L elektro-polirani nehrđajući čelik) |
|
Izvori taloženja |
Podesivo: 2-6 magnetronskih katoda za raspršivanje / 2-4 izvora luka |
|
Snaga pristranosti supstrata |
0 do -1000 VDC podesivo (impulsni DC za dielektrične podloge) |
|
Ujednačenost debljine filma |
<= +/- 3% across standard planar holder (via dynamic planetary rotation) |
|
Temperatura podloge |
Ambijentalna do 650 stupnjeva (+/- 2 stupnjeva PID zatvorena{3}}kontrola petlje) |
|
Distribucija energije |
RF (13,56 MHz), DC, pulsirajuća DC i srednja-frekvencija (MF) sa potiskivanjem luka |
Ključne značajke
Dvostruka-tehnološka integracija:Kombinira raspršivanje (glatki, amorfni složeni filmovi) i katodni luk (taloženje metala/legure visoke-ionizacije) u jednom ciklusu pumpanja-down.
Upravljanje plinom zatvorene-petlje:Kontroleri masenog protoka (MFC) upareni s optičkim nadzorom emisije (OEM) stabiliziraju parcijalne tlakove reaktivnog plina.
Mehanička izolacija:Više{0}}osni planetarni pogoni izoliraju mehaničke ležajeve od procesne zone, sprječavajući kontaminaciju česticama.
Toplinska arhitektura:Dvostruke stijenke-vodeno{1}}hlađene stijenke komore i zaštita od zračenja sprječavaju toplinsko izobličenje tijekom rada velike-napone.
Jezgra automatizacije:Siemens S7-1500 PLC i WinCC SCADA arhitektura za blokadu, plin i napajanje u stvarnom vremenu.
Konfiguracija vakuumskog sustava
Grubi vlak:Pumpe s rotirajućim{0}}krilcima s izravnim-pogonom potpomognute Roots puhalima s magnetskim tekućinskim brtvama.
Visoki vakuum:Magnetski levitirane turbo{0}}molekularne pumpe (1200 - 3200 L/s) ili kriogene pumpe.
Dijagnostika:Integrirani ispitni priključci helijeva masenog spektrometra i automatske blokade za sekvenciranje.
Kompatibilnost materijala i podloge
Ciljni materijali:
Metali:Ti, Cr, Al, Zr, Cu, TiAl, CrAl, Si
Keramika/spojevi:TiN, CrN, TiAlN, DLC, Al2O3, SiO2
Podloge:Alatni čelici (H13, M2, karbidni umetci), konstrukcijske legure titan/aluminij, inženjerska keramika i silicijske ploče.
Prijave i dokazana izvedba
Alati za rezanje:Višeslojni premazi-niskog-trenja, visoke-tvrdoće- (TiAlN/TiN) za produženi vijek trajanja alata pod suhom-brzinskom obradom.
Automobili:Premazi protiv habanja i-habanja za klipne prstenove i igle za ubrizgavanje goriva.
Aerospace:Toplinska barijera-otporna na oksidaciju i zaštitni filmovi na lopaticama i pričvrsnim elementima kompresora.
Optika i elektronika:Vodljivi prozirni oksidi (ITO) i filtri za optičke smetnje.
Mogućnosti prilagodbe
Geometrija komore:Konfiguracije pravokutnih kutija za šaržno utovar u regale ili cilindrične inline geometrije.
Dodatna oprema izvora:Izmjenjive prirubnice za montažu katode za pretvorbu polja u CFUBMS.
Plazma jetkanje:Kaufmann-tip ionskih topova ili šupljih katodnih izvora za-in situ čišćenje podloge.
Kontrola kvalitete i tvorničko testiranje
Integritet vakuuma:Prag ispitivanja curenja helija<= 1 x 10^-9 Pa*m^3/s.
Površinska obrada:Unutarnji zavari komore elektro-polirani do Ra<= 0.4 um.
MAST:72-satni kontinuirani test suhog rada vakuuma, pokreta i sigurnosnih petlji prije stavljanja u sanduk.
Standardi sukladnosti:Izgrađen prema CE direktivama za strojeve i standardima ISO 9001. (Ikone značke povjerenja: ISO 9001, CE, UL)
Instalacija i tehnička podrška
Paket dokumentacije:P&ID sheme, dijagrami električnog ožičenja, izvorna logika PLC-a i dosjei o usklađenosti s CE/UL.
Puštanje u rad:Inženjeri na terenu nadziru mehaničko pozicioniranje, priključke na struju i provjeru provjere curenja.
SAT i primopredaja recepata:Osnovni testovi na- lokaciji i optimizacija recepata.
Često postavljana pitanja
P: Koliko je vrijeme-zastoja pumpe do osnovnog tlaka?
O: Doseže < 5,0 x 10^-4 Pa unutar 45 minuta u čistim, suhim i toplinskim uvjetima okoline.
P: Može li se sustav prebacivati između DC i RF raspršivanja u-procesu?
O: Da. Matrica napajanja omogućuje softver-kontrolirano slijed između DC, pulsirajuće DC i RF bez prekidanja vakuuma.
P: Koji su uslužni programi potrebni na-site?
O: Hlađena voda (15 do 20 stupnjeva pri 0,3 do 0,4 MPa), komprimirani zrak (0,6 MPa), procesni plinovi visoke -čistoće (Ar, N2, O2 pri 99,999%) i namjenska 3-fazna industrijska energija.
P: Kako se regulira temperatura podloge tijekom taloženja?
O: Integrirani infracrveni pirometri povezani s grijačima zračenja i PID kontrolom zatvorene-petlje.
Popularni tagovi: pvd kompozitni tankoslojni sustav, Kina pvd kompozitni tankoslojni sustav proizvođači, dobavljači, tvornica
